Dépôt de couches minces par PVD / Magnétron / pulvérisation

L’enceinte PULP pompée en vide secondaire (<10-6 mbar) est équipée de deux magnétrons (cylindriques, 4 pouces) permettant le dépôt de couches minces sur des substrats plans plans d’une dimension maximale de 15 x 15 cm. Les magnétrons peuvent être polarisés en régime continu sous un plasma d’argon permettant d’avoir des revêtements métalliques de 0.1 à 1 µm d’épaisseur environ. La pression d’argon dans l’enceinte, la puissance appliquée sur les magnétrons, la durée de dépôt, la vitesse de rotation du porte échantillon sont variables permettant d'accéder à des propriétés spécifiques pour les couches minces. Une vingtaine de cibles métalliques sont disponibles permettant de synthétiser des revêtements de différentes natures (Zr, Cu, Ni, Cr, Mo …).

Pour des demandes plus spécifiques, des couches minces de type oxydes ou nitrures peuvent être synthétisées en régime pulsé ou radiofréquence tandis que de nombreux outils de diagnostics de la phase gazeuse (notamment plasma) et des interactions plasma / surface sont disponibles au laboratoire et peuvent être implémentés sur l'enceinte PULP. Six autres bâtis PVD / pulvérisation / magnétron existent au laboratoire GREMI pour des conditions de synthèse de couches minces spécifiques.